Navegação Física por Assunto "Sputtering"
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Análise por feixes de íons de filmes finos dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente
(1993) [Tese]Esta tese trata de filmes finos de materiais dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente que são analisados por métodos de feixes de íons. Como introdução aos nossos trabalhos, são abordados os ... -
Caracterização elétrica de estruturas metal/dielétrico high-k/Si
(2005) [Dissertação]Foram estudadas as propriedades elétricas de estruturas MOS envolvendo materiais com Zr e Hf: Al/HfO2/Si, Al/HfAlO/Si, Al/ZrO2/Si e Al/ZrAlO/Si depositadas por JVD (Jet Vapor Deposition) submetidas a diferentes doses de ... -
Estudo de sínteses e caracterização de filmes de óxido de tungstênio
(2019) [Tese]O oxido de tungstênio (WO3) e um semicondutor de bandgap indireto e muito utilizado em aplicações tecnológicas, principalmente, como eletrodo em células solares e baterias de lítio- íon. No entanto, a e ciência destes ... -
Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores
(1990) [Dissertação]Filmes finos de óxido de estanho depositados por "sputtering" reativo foram caracterizados com bases em análises feitas por Espalhamento Nuclear Ressonante, Espectroscopia por Retroespalhamento Rutheford, Espectroscopia ...