Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al/sub 2/O/sub 3/ films on Si" : reply

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Data
2001
Autor
Tipo
URI
http://hdl.handle.net/10183/100091
Assunto
Contido em
Physical review letters. Woodbury. Vol. 86, no. 20 (May 2001), p. 4714
Origem
Estrangeiro
Coleções
 
   

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