Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al/sub 2/O/sub 3/ films on Si" : reply

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Fecha
2001
Autor
Tipo
URI
http://hdl.handle.net/10183/100091
Materia
En
Physical review letters. Woodbury. Vol. 86, no. 20 (May 2001), p. 4714
Origen
Estranjero
Colecciones
 
   

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