Determinação dos parâmetros de deposição de filmes de HfO2 sobre Si depositados por sputtering

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Data
2011
Autor
Orientador
Tipo
URI
http://hdl.handle.net/10183/48497
Evento
Salão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Tipo de apresentação
Apresentação oral
Grande Área
Ciências exatas e da terra
Sessão
Tópicos gerais
Temática
Processamento e análise de materiais
Coleções
 
   

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