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dc.contributor.advisorSoares, Gabriel Vieirapt_BR
dc.contributor.authorFeijó, Tais Orestespt_BR
dc.date.accessioned2012-05-15T20:36:00Zpt_BR
dc.date.issued2011pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/48497pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.titleDeterminação dos parâmetros de deposição de filmes de HfO2 sobre Si depositados por sputteringpt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.subject.sessionTópicos geraispt_BR
dc.subject.themeProcessamento e análise de materiaispt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.type.presentationApresentação oralpt_BR
dc.description.number2pt_BR
dc.identifier.sic11064pt_BR
dc.subject.macroFísicapt_BR


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