• Determinação da posição reticular de F em Si 

      Bernardi, Fabiano (2006) [Dissertação]
      Neste trabalho, estudamos a posição de átomos de F na estrutura cristalina do Si. As amostras foram pré-amorfizadas utilizando um feixe de Si de 200 keV e, após, implantadas com F. Então recristalizamos a camada amorfa ...
    • Difusão de Au e Hf em (alfa)-Ti 

      Santos, Jose Henrique Rodrigues dos (1993) [Dissertação]
      Neste trabalho estuda-se a difusão de Au e Hf em a-Ti. O Hf, a princípio, deve ter um comportamento substitucional, enquanto o Au não preenche de forma absoluta as regras semi-empíricas que prevêem dissolução/difusão ...
    • Estudo do poder de freamento eletrônico de íons de He e B canalizados em Si 

      Santos, Jose Henrique Rodrigues dos (1997) [Tese]
      Neste trabalho, medimos a perda de energia de íons de He e B ao longo da direção < 100 > do Si, com energias que vão desde 200 ke V a 4,5 Me V, no primeiro caso, e de 500 ke V a 9 MeV, no segundo. Usamos a técnica de ...
    • Medidas do poder de freamento de íons de He e Li em filmes de Zn 

      Duarte, Patricia Fernanda (2003) [Dissertação]
      Neste trabalho, medimos a perda de energia de íons de He e Li em Zn, com energias que vão de 400 keV a 7 MeV, no primeiro caso, e de 300 keV a 5 MeV, no segundo. Usamos a técnica de retroespalhamento de Rutherford com ...