Listar Física por autor "Stedile, Fernanda Chiarello"
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Análise por feixes de íons de filmes finos dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente
Stedile, Fernanda Chiarello (1993) [Tesis]Esta tese trata de filmes finos de materiais dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente que são analisados por métodos de feixes de íons. Como introdução aos nossos trabalhos, são abordados os ... -
Crescimento térmico de filmes dielétricos sobre SiC e caracterização das estruturas formadas
Radtke, Claudio (2003) [Tesis]Na presente tese, foi investigado o crescimento térmico de filmes dielétricos (óxido de silício e oxinitreto de silício) sobre carbeto de silício. Além disso, os efeitos da irradiação iônica do SiC antes de sua oxidação, ... -
Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores
Stedile, Fernanda Chiarello (1990) [Tesis de maestría]Filmes finos de óxido de estanho depositados por "sputtering" reativo foram caracterizados com bases em análises feitas por Espalhamento Nuclear Ressonante, Espectroscopia por Retroespalhamento Rutheford, Espectroscopia ... -
Filmes finos dielétricos para a tecnologia do silício : processamento térmico e caracterização
Rosa, Elisa Brod Oliveira da (2003) [Tesis]O rápido avanço tecnológico coloca a tecnologia do Si diante de um grande desafio: substituir o dielétrico de porta utilizado por mais de 40 anos em dispositivos MOSFET (transistor de efeito de campo metal-óxido-semicondutor), ... -
Superfícies porosas recobertas com metalocenos : análise multivariada envolvendo caracterização com feixes de íons
Krug, Cristiano (2000) [Tesis de maestría]Implementaram-se no Laboratório de Implantação IOnica do IF-UFRGS técnicas de análise com feixes de ions paa a caracterização composiciond de sistemas cataliticos de grande interesse para a produção de polimeros sintéticos, ...