Analysis of total ionizing dose effects on 0.13 µm technology-temperature-compensated voltage references
dc.contributor.author | Both, Thiago Hanna | pt_BR |
dc.contributor.author | Colombo, Dalton Martini | pt_BR |
dc.contributor.author | Dallasen, Ricardo Vanni | pt_BR |
dc.contributor.author | Wirth, Gilson Inacio | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2022-02-12T04:52:33Z | pt_BR |
dc.date.issued | 2013 | pt_BR |
dc.identifier.issn | 2175-9146 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10183/235096 | pt_BR |
dc.format.mimetype | application/pdf | pt_BR |
dc.language.iso | eng | pt_BR |
dc.relation.ispartof | Journal of aerospace technology and management [recurso eletrônico]. São José dos Campos. Vol. 5, no. 3 (July/Sept. 2013), p. 335-340 | pt_BR |
dc.rights | Open Access | en |
dc.subject | Semicondutores | pt_BR |
dc.subject | Cmos | pt_BR |
dc.subject | Microeletrônica | pt_BR |
dc.subject | Efeitos da radiação | pt_BR |
dc.title | Analysis of total ionizing dose effects on 0.13 µm technology-temperature-compensated voltage references | pt_BR |
dc.type | Artigo de periódico | pt_BR |
dc.identifier.nrb | 000929783 | pt_BR |
dc.type.origin | Nacional | pt_BR |
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