Influência do politipo na interface SiO2/SiC e na cinética de oxidação de filmes de SiO2 sobre substratos de 4H- e 6H-SiC

dc.contributor.advisor	Stedile, Fernanda Chiarello	pt_BR
dc.contributor.author	Lopes, Luana Dezingrini	pt_BR
dc.date.accessioned	2012-05-15T20:22:52Z	pt_BR
dc.date.issued	2011	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/47540	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.title	Influência do politipo na interface SiO2/SiC e na cinética de oxidação de filmes de SiO2 sobre substratos de 4H- e 6H-SiC	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.subject.session	Química de materiais ii	pt_BR
dc.subject.theme	Química de materiais	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.type.presentation	Apresentação oral	pt_BR
dc.description.number	6	pt_BR
dc.identifier.sic	9653	pt_BR
dc.subject.macro	Química	pt_BR

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