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dc.contributor.advisorStedile, Fernanda Chiarellopt_BR
dc.contributor.authorLopes, Luana Dezingrinipt_BR
dc.date.accessioned2012-05-15T20:22:52Zpt_BR
dc.date.issued2011pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/47540pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.titleInfluência do politipo na interface SiO2/SiC e na cinética de oxidação de filmes de SiO2 sobre substratos de 4H- e 6H-SiCpt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.subject.sessionQuímica de materiais iipt_BR
dc.subject.themeQuímica de materiaispt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.type.presentationApresentação oralpt_BR
dc.description.number6pt_BR
dc.identifier.sic9653pt_BR
dc.subject.macroQuímicapt_BR


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