Caracterização de HfO2 sobre Ge e Si utilizando espalhamento de
íons de energia intermediária

dc.contributor.advisor	Krug, Cristiano	pt_BR
dc.contributor.author	Kaufmann, Ivan Rodrigo	pt_BR
dc.contributor.author	Bastos, Karen Paz	pt_BR
dc.contributor.author	Miotti, Leonardo	pt_BR
dc.date.accessioned	2012-05-15T16:56:48Z	pt_BR
dc.date.issued	2009	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/41594	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (21. : 2009 out. 19-23 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2009.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.title	Caracterização de HfO2 sobre Ge e Si utilizando espalhamento de íons de energia intermediária	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de Iniciação Científica (21. : 2009 out. 19-23 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.subject.session	Propriedades físicas de novos materiais	pt_BR
dc.subject.theme	Propriedades físicas de novos materiais	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.type.presentation	Apresentação oral	pt_BR
dc.description.number	1	pt_BR
dc.identifier.sic	156	pt_BR
dc.subject.macro	Física	pt_BR

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