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dc.contributor.advisorKrug, Cristianopt_BR
dc.contributor.authorKaufmann, Ivan Rodrigopt_BR
dc.contributor.authorBastos, Karen Pazpt_BR
dc.contributor.authorMiotti, Leonardopt_BR
dc.date.accessioned2012-05-15T16:56:48Zpt_BR
dc.date.issued2009pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/41594pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.relation.ispartofSalão de Iniciação Científica (21. : 2009 out. 19-23 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2009.pt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.titleCaracterização de HfO2 sobre Ge e Si utilizando espalhamento de íons de energia intermediáriapt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (21. : 2009 out. 19-23 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.subject.sessionPropriedades físicas de novos materiaispt_BR
dc.subject.themePropriedades físicas de novos materiaispt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.type.presentationApresentação oralpt_BR
dc.description.number1pt_BR
dc.identifier.sic156pt_BR
dc.subject.macroFísicapt_BR


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