Técnica de alta pressão aplicada à compactação de pós nanométricos de gel de sílica contendo corantes da família das benzazolas

dc.contributor.author	Andrade, Mônica Jung de	pt_BR
dc.contributor.author	Costa, Tania Maria Haas	pt_BR
dc.contributor.author	Stefani, Valter	pt_BR
dc.contributor.author	Hillebrand, Sandro	pt_BR
dc.contributor.author	Gallas, Marcia Russman	pt_BR
dc.contributor.author	Jornada, Joao Alziro Herz da	pt_BR
dc.contributor.author	Vargas, Andre Luis Pereira	pt_BR
dc.date.accessioned	2014-01-21T01:50:23Z	pt_BR
dc.date.issued	1999	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/86214	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (11. : 1999 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1999.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Física	pt_BR
dc.title	Técnica de alta pressão aplicada à compactação de pós nanométricos de gel de sílica contendo corantes da família das benzazolas	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de iniciação Científica (11. : 1999 out. 25-29 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000281763	pt_BR
dc.subject.session	Engenharia de Materiais IV	pt_BR
dc.subject.cnpq	Engenharias	pt_BR
dc.description.number	174	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

Este item está licenciado na Creative Commons License