Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]

dc.contributor.advisor	Bergmann, Carlos Perez	pt_BR
dc.contributor.author	Guedes, João Pedro Favero	pt_BR
dc.contributor.author	Lima, Marcio Dias	pt_BR
dc.date.accessioned	2012-05-03T01:24:45Z	pt_BR
dc.date.issued	2003	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/39930	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (15. : 2003 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2003.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Engenharia de materiais	pt_BR
dc.title	Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de iniciação Científica (15. : 2003 nov. 24-28 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000402120	pt_BR
dc.subject.session	Engenharia Metalúrgica e de Materiais V	pt_BR
dc.subject.cnpq	Engenharias	pt_BR
dc.description.number	217	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

Este item está licenciado na Creative Commons License