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dc.contributor.advisorAndrade, Antonio Marcos Helgueira dept_BR
dc.contributor.authorTonetto, Eduardo Fernandespt_BR
dc.date.accessioned2026-01-21T07:55:09Zpt_BR
dc.date.issued2025pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/300468pt_BR
dc.description.abstractTendo em vista o grande aumento de aplicações de filmes finos para tecnologias atu- ais de armazenamento magnético e visando ampliar os conhecimentos acerca das suas propriedades magnéticas e estruturais, esse trabalho tem como objetivo o crescimento de diferentes composições de filmes finos nanoestruturados sobre substratos de silício utili- zando o método de desbastamento iônico ou Magnetron Sputtering, com seu material ferromagnético acompanhado de diversas camadas sementes crescidas utilizando Ato- mic Layer Deposition. Buscando compreender os efeitos da atuação dessas camadas buffer na cristalinidade e consequentemente na resposta magnética do filme, possibilitando destacar as vantagens da utilização de cada uma para as diferentes aplicações necessá- rias, analisando taxas de deposição, cristalinidade, reprodutibilidade, remanências, entre outras medidas, testando a ocorrência ou não de fenômenos como “Colapso do Eixo Duro” e “Recoil Curve Overshoot”, que serão detalhados posteriormente.pt_BR
dc.description.abstractIn view of the great increase in applications of thin films for current magnetic storage technologies and aiming to broaden the knowledge about their magnetic and structu- ral properties, this work aims at the growth of equal compositions of nanostructured ferromagnetic thin films on silicon substrates using the “Ion-Etching” or “Magnetron Sputtering” method, with their ferromagnetic material accompanied by several seed layers grown using Atomic Layer Deposition. Seeking to understand the effects of these buffer layers on cristallinity and consequently on the magnetic response of the film, this study aims to highlight the advantages of using each one for the different required applications by analyzing their deposition rates, crystallinity, reproducibility, remanen- ces, among other measures, testing the occurrence or not of phenomena such as “Hard Axis Collapse” and “Recoil Curve Overshoot”, which will be detailed later.en
dc.format.mimetypeapplication/pdfpt_BR
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.subjectThin filmsen
dc.subjectSeed layersen
dc.subjectPulverização catódicapt_BR
dc.subjectDifração de raios Xpt_BR
dc.subjectMagnetron sputteringen
dc.subjectAtomic layer depositionen
dc.subjectHard Axis collapseen
dc.subjectRecoil Curve overshooten
dc.titleCaracterização de filmes finos de cobalto crescidos por magnetron sputtering : estudo da influência da camada semente nas propriedades estruturais e magnéticaspt_BR
dc.typeTrabalho de conclusão de graduaçãopt_BR
dc.identifier.nrb001299536pt_BR
dc.degree.grantorUniversidade Federal do Rio Grande do Sulpt_BR
dc.degree.departmentInstituto de Físicapt_BR
dc.degree.localPorto Alegre, BR-RSpt_BR
dc.degree.date2025pt_BR
dc.degree.graduationAstrofísica: Bachareladopt_BR
dc.degree.levelgraduaçãopt_BR


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