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dc.contributor.authorPitthan Filho, Eduardopt_BR
dc.contributor.authorCorrêa, Silma Albertonpt_BR
dc.contributor.authorPalmieri, Rodrigopt_BR
dc.contributor.authorSoares, Gabriel Vieirapt_BR
dc.contributor.authorBoudinov, Henri Ivanovpt_BR
dc.contributor.authorStedile, Fernanda Chiarellopt_BR
dc.date.accessioned2013-12-12T01:50:21Zpt_BR
dc.date.issued2013pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/83616pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoengpt_BR
dc.relation.ispartofBrazilian-German Workshop on Applied Surface Science (8. : 2013 Sept. 15-20 : Bamberg, Alemanha). Book of Abstracts. [S.l. : s.n., 2013]pt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectCarboneto de silíciopt_BR
dc.subjectOxidação térmicapt_BR
dc.titleSiO2 films on 4H-SiC : reducing interface electrical degradation due to thermal oxidationpt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.identifier.nrb000902871pt_BR
dc.type.originEstrangeiropt_BR


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