Influência do nitrogênio no crescimento de filmes de óxido de silício

dc.contributor.author	Radtke, Claudio	pt_BR
dc.contributor.author	Stedile, Fernanda Chiarello	pt_BR
dc.contributor.author	Salgado, Tania Denise Miskinis	pt_BR
dc.date.accessioned	2014-05-15T02:07:13Z	pt_BR
dc.date.issued	1997	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/95183	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1997.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Filmes finos de óxido dielétricos de silício : Crescimento térmico	pt_BR
dc.title	Influência do nitrogênio no crescimento de filmes de óxido de silício	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 set. 15-19 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000152619	pt_BR
dc.subject.session	Físico-Química / Química Analítica	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.description.number	124	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

Este item está licenciado na Creative Commons License