Nitretação de filmes de SiO2 sobre SiC

dc.contributor.author	Radtke, Claudio	pt_BR
dc.contributor.author	Stedile, Fernanda Chiarello	pt_BR
dc.date.accessioned	2014-01-15T01:55:37Z	pt_BR
dc.date.issued	1999	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/85563	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (11. : 1999 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1999.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Filmes finos	pt_BR
dc.subject	Nitrogênio : Deposição	pt_BR
dc.subject	Silicio : Oxidacao	pt_BR
dc.title	Nitretação de filmes de SiO2 sobre SiC	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de iniciação Científica (11. : 1999 out. 25-29 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000247442	pt_BR
dc.subject.session	Novos Materiais I	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.description.number	123	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

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