Investigação da cinética de crescimento térmico de filmes de SiO2 sobre substratos de 4H- e 6H-SiC
dc.contributor.advisor | Stedile, Fernanda Chiarello | pt_BR |
dc.contributor.author | Lopes, Luana Dezingrini | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2012-05-15T19:55:12Z | pt_BR |
dc.date.issued | 2010 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10183/46532 | pt_BR |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | por | pt_BR |
dc.relation.ispartof | Salão de Iniciação Científica (22. : 2010 out. 18-22 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2010. | pt_BR |
dc.rights | Open Access | en |
dc.title | Investigação da cinética de crescimento térmico de filmes de SiO2 sobre substratos de 4H- e 6H-SiC | pt_BR |
dc.type | Resumo publicado em evento | pt_BR |
dc.contributor.event | Salão de Iniciação Científica (22. : 2010 out. 18-22 : UFRGS, Porto Alegre, RS). | pt_BR |
dc.subject.session | Química de materiais | pt_BR |
dc.subject.theme | Química de materiais | pt_BR |
dc.subject.cnpq | Ciências exatas e da terra | pt_BR |
dc.type.presentation | Apresentação oral | pt_BR |
dc.description.number | 1 | pt_BR |
dc.identifier.sic | 6448 | pt_BR |
dc.subject.macro | Química | pt_BR |
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Exact and Earth Sciences (281)