Tratamentos térmicos em filmes dielétricos de HfSiO e HfSiON para a tecnologia do silício

dc.contributor.author	Driemeier, Carlos Eduardo	pt_BR
dc.contributor.author	Baumvol, Israel Jacob Rabin	pt_BR
dc.contributor.author	Morais, Jonder	pt_BR
dc.date.accessioned	2012-05-03T01:24:53Z	pt_BR
dc.date.issued	2003	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/39956	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf	pt_BR
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (15. : 2003 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2003.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Física	pt_BR
dc.title	Tratamentos térmicos em filmes dielétricos de HfSiO e HfSiON para a tecnologia do silício	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de iniciação Científica (15. : 2003 nov. 24-28 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000402239	pt_BR
dc.subject.session	Processamento e Análise de Materiais	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.description.number	356	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

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