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dc.contributor.advisorWirth, Gilson Inaciopt_BR
dc.contributor.authorSilva, Maurício Banaszeski dapt_BR
dc.date.accessioned2016-09-10T02:15:02Zpt_BR
dc.date.issued2016pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/147989pt_BR
dc.description.abstractO trabalho propõe um circuito para caracterização estatística do fenômeno Bias Temperature Instability (BTI). O circuito tem como base uma matriz de transistores para caracterização eficiente em larga escala de BTI. O design proposto visa o estudo da variabilidade de BTI dependente do tempo em dispositivos altamente miniaturizados. Para tanto se necessita medir centenas de dispositivos, a fim de se obter uma amostra estatisticamente significante. Uma vez que variações nos tempos de estresse e medida dos dispositivos podem gerar erros no processo de caracterização, o circuito implementa em chip (on-chip) o controle dos tempos de estresse e de medida, para que ocorra uma caracterização estatística precisa. O circuito de controle implementado faz com que todos dispositivos testados tenham os mesmos tempos de estresse e os mesmos tempos de recuperação (relaxamento). Desta forma, o circuito proposto melhora significantemente tanto a área utilizada quanto o tempo de medida, quando comparado a alternativas anteriormente implementadas. O leiaute do circuito foi realizado no novo nó tecnológico de 28 nanômetros do IMEC.pt_BR
dc.description.abstractThis work proposes an array-based evaluation circuit for efficient and massively parallel characterization of Bias Temperature Instability (BTI). This design is highly efficient when studying the BTI time-dependent variability in deeply-scaled devices, where hundreds of devices should be electrically characterized in order to obtain a statistically significant sample size. The circuit controls stress and measurement times for accurate statistical characterization, making sure all the devices characterized have the same stress and recovery times. It significantly improves both area and measurement time. The circuit layout is laid out in the new 28nm node IMEC technology.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectMicroeletrônicapt_BR
dc.subjectBias temperature instability (BTI)en
dc.subjectLarge-scale characterizationen
dc.subjectCircuitos integradospt_BR
dc.subjectDeeply scaled transistorsen
dc.subjectReliabilityen
dc.subjectPerformance degradation (Aging)en
dc.titleCircuito on-chip para a caracterização em alta escala do efeito de Bias Temperature Instabilitypt_BR
dc.title.alternativeOn-chip circuit for massively parallel BTI characterization en
dc.typeDissertaçãopt_BR
dc.identifier.nrb001001128pt_BR
dc.degree.grantorUniversidade Federal do Rio Grande do Sulpt_BR
dc.degree.departmentInstituto de Informáticapt_BR
dc.degree.programPrograma de Pós-Graduação em Microeletrônicapt_BR
dc.degree.localPorto Alegre, BR-RSpt_BR
dc.degree.date2016pt_BR
dc.degree.levelmestradopt_BR


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