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dc.contributor.advisorMorais, Jonderpt_BR
dc.contributor.authorAlexandre, Jéssicapt_BR
dc.date.accessioned2016-06-23T02:13:04Zpt_BR
dc.date.issued2012pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/142943pt_BR
dc.description.abstractEste trabalho de conclusão de curso tem o objetivo de estudar o crescimento de filmes metálicos ultrafinos. Foram depositados filmes de prata (Ag) e cobre (Cu) sobre substratos de silício e vidro pelo método de deposição por Pulverização Catódica (Sputtering). As propriedades ópticas, estruturais e morfológicas dos filmes foram investigadas através das técnicas de Espectroscopia de Absorção no Ultravioleta-Visível (UV-Vis), Difração de Raios-X (DRX) e Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). As espessuras dos filmes foram determinadas pela técnica de Perfilometria. Como resultado, foi possível determinar as taxas de crescimento dos filmes em função dos parâmetros de deposição, e estabelecer um procedimento para a obtenção da espessura de um filme a partir da sua Transmitância.pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.titleDeposição e caracterização de filmes finos metálicospt_BR
dc.typeTrabalho de conclusão de graduaçãopt_BR
dc.identifier.nrb000871520pt_BR
dc.degree.grantorUniversidade Federal do Rio Grande do Sulpt_BR
dc.degree.departmentInstituto de Químicapt_BR
dc.degree.localPorto Alegre, BR-RSpt_BR
dc.degree.date2012pt_BR
dc.degree.graduationQuímica: Bachareladopt_BR
dc.degree.levelgraduaçãopt_BR


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